Wprowadzenie do stopu miedzi-niku-tynu C72500
C72500 znajduje szerokie zastosowanie w łącznikach elektrycznych, ramkach prowadzących półprzewodników, terminalach itp. zarówno w systemach sygnałowych, jak i mocowych. Cu Ni Sn to stop miedzi wzmacniany przez modulowaną dekompozycję, który charakteryzuje się dużą wytrzymałością, wysokim oporem na zużycie, doskonałym oporem na relaksację naprężeń oraz dobrą przewodnością elektryczną. Szeroko stosowany w produkcji przewodzących i odpornych na zużycie elementów, takich jak łożyska, walecki, osadniki, komponenty elektroniczne o dużej mocy, precyzyjne gniazdki terminalowe itp.
| Stala | Skład chemiczny (%): ≤ | Grubość (mm) |
||||||
| ASTM | EN | JIS | Cu | Ni | Sn | Mn | Własność | 0.05-5.0 |
| C72500 | CuNi9Sn2 | C7250 | równowaga | 8.5-10.5 | 1.8-2.8 | ≤0.2 | ≤1.0 | |
| Właściwości fizyczne | ||||||||
| Gęstość (g/cm³) |
Moduł elastyczności (GPa) |
współczynnik rozszerzenia termicznego (×10 -6⁄K) |
Przewodnictwo elektryczne (%IACS) |
przewodność cieplna W(M·K) |
||||
| 8.8 | 120 | - | 15 | 80 | ||||
| Właściwości mechaniczne | Właściwości gięcia | |||||||
| temperament | Twardość HV |
Test napięcia | 90°R/T(Grubość≤0.5mm) | |||||
| Wytrzymałość na rozciąganie Rm/MPa |
Wytrzymałość na zginanie MPa |
Wydłużenie % |
Dobry sposób | Zły sposób | ||||
| TB00 | 100-160 | 350-500 | 195-400 | ≥ 25 | - | - | ||
| TD04 | 170-260 | 700-850 | 550-700 | ≥6 | 1 | 1.5 | ||
| TD08 | 240-280 | 850-950 | 670-800 | ≥5 | 4 | 5 | ||
| TD12 | 260-320 | 900-1050 | ≥750 | ≥2 | - | - | ||
Często zadawane pytania
Q: Jak długo trwa Twój czas dostawy?
A: Zazwyczaj to trwa do 15 dni, jeśli towary są na stanie. lub mniej niż 30 dni, jeśli towary nie są na stanie, w zależności od ilości.
Q: Czy dostarczacie próbki?
A: Tak, możemy zaoferować próbkę.
Q: Jaki są Wasze warunki płatności?
A. 30% T/T w przód, reszta przed wysyłką. Cena zależy od materiału i ilości.
Jeśli masz inne pytania, proszę skontaktować się z nami.
Praktyka studia skoncentrowana na nowoczesnym designie, wnętrzach krajobrazowych od naszego powstania.
EN
