C51900 یک آلیاژ مس-قطره-فسفروس با مقاومت بالا در برابر خوردگی، خستگی، مغناطیس و قابلیت جوشکاری راحت و عملکرد پردازش عالی است.
این ماده به طور گسترده در تولید قطعات الاستیک، ضد سوزنی و ضد مغناطیس در ابزار دقیق و سنجش استفاده می‌شود.
C51900 می‌تواند برای تولید محصولات نواری مس فسفری دانه‌ریز استفاده شود.
و C51900 (C5191/QSn6.5-0.1) با موفقیت محصولات پوشش گرم (پلاسمای الکترودپوزیشن) با لایه‌های سنگفر 1-6μm تولید انبوه کرده است.
| دسته بندی | مؤلفه شیمیایی(%)≥ عناصر میکرو(%)≤ | |||||||||
| Sn | AL | Zn | ف | Pb | نه | پ | دیگر | Cu | ||
| بریتانیا | QSn6.5-0.1 | 6.0-7.0 | 0.002 | 0.3 | 0.05 | 0.02 | 0.10-0.25 | 0.4 | تعادل | |
| EN | CuSn6 | 5.5-7.0 | 0.2 | 0.1 | 0.02 | 0.2 | 0.01-0.4 | 0.2 | تعادل | |
| ASTM | C51900 | 5.0-7.0 | - | 0.30 | 0.10 | 0.05 | - | 0.03-0.35 | - | تعادل |
| JIS | C5191 | 5.5-7.0 | - | 0.2 | 0.1 | 0.02 | - | 0.03-0.35 | 0.5 | تعادل |
| ویژگی‌های فیزیکی | |||||
| تراکم (G/سانتی‌متر³) |
مدول الاستیسیته (گیگاپاسکال) |
ضریب انبساط حرارتی (×10-6/K) |
هدایت الکتریکی (%IACS) |
هدایت حرارتی (W/(M·K)) |
|
| 8.86 | 118 | 17.2 | 13 | 75 | |
| دسته بندی | حالت | استحکام کششی Rm/MPa |
تنش برشی A11.3/% |
سختی HV |
||||||||||||||
| بریتانیا | JIS | ASTM | EN | بریتانیا | JIS | ASTM | EN | بریتانیا | JIS | ASTM | EN | بریتانیا | JIS | EN | بریتانیا (HV) |
JIS (HV) |
ASTM (HR) |
EN (HV) |
| QSn6.5-0.1 | C5191 | C51900 | CuSn6 | O60 | O | O60 | R350/H080 | ≥315 | ≥315 | 330-435 | 350-420 | ≥40 | ≥۴۲ | ≥45 | ≤120 | - | ۱۸-۶۶ | ۸۰-۱۱۰ |
| H01 | ۱/۴H | - | R420/H125 | 390-510 | 390-510 | - | ۴۲۰-۵۲۰ | ≥35 | ≥35 | ≥۱۷ | ۱۱۰-۱۵۵ | 100-160 | - | ۱۲۵-۱۶۵ | ||||
| H02 | 1/2H | H02 | R500/H160 | 490-610 | 490-610 | ۴۴۰-۵۴۵ | ۵۰۰-۵۹۰ | ≥۱۰ | ≥20 | ≥8 | ۱۵۰-۱۹۰ | ۱۵۰-۲۰۵ | ۶۵-۸۸ | ۱۶۰-۱۹۰ | ||||
| H04 | H | H04 | R560/H180 | 590-690 | 590-685 | ۵۵۰-۶۸۰ | 560-650 | ≥8 | ≥8 | ≥5 | 180-230 | 180-230 | 86-95 | 180-210 | ||||
| H06 | EH | - | R640/H200 | 635-720 | 635-720 | - | 640-730 | ≥5 | ≥5 | ≥۳ | 200-240 | 200-240 | - | ۲۰۰-۲۳۰ | ||||
| H08 | SH | - | R720/H220 | ≥۶۹۰ | ≥۶۹۰ | - | ≥۷۲۰ | - | - | - | ≥۲۱۰ | ≥۲۱۰ | - | ≥۲۲۰ | ||||
تمرین استودیو بر طراحی مدرن، مناظر داخلی از آغاز ما متمرکز بود.
EN
